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电感耦合PECVD复合沉积系统
型 号:CARBOZEN LAB


负责人:陈仁德
电 话:0574-86685036

主要参数:
► 模式: PECVD/PVD/ALD
► 极限真空:<5.0×10-5Pa
► 沉积室尺寸:Φ500×300mm
► 基片台:1 axels with revolution and rotation (Speed :0~30rpm)
► 加热温度:室温~400℃
► 偏压:DC bipolar pulse

用途:
可在所需多种基材上实现材料表面改性。基材种类涉及:金属、合金、塑料、陶瓷等。
高离化率磁控溅射复合受控阴极电弧镀膜装置
型  号:自行研制
生产商:中科院宁波工业技术研究院(筹)

负责人:陈仁德
电  话:0574-86685036

主要参数:
► 等离子体源: linear ion beam, metal arc, HIPIMS sputtering
► 本底真空:<5.0×10-6Torr
► 沉积室尺寸:Φ700×650mm
► 基片台:6 axels with revolution and rotation (Speed :1~9.5rpm)
► 偏压:DC bipolar pulse( ~100KHZ, ~1200V)

用途:
可在所需多种基材上沉积超高性能的光滑 CrN, TiN, TiAlN 等功能性涂层(超硬、防腐、耐磨、耐高温氧化、自润滑等)与装饰涂层(黑色、红色、蓝色等)。基材种类涉及:金属、合金、塑料、陶瓷等。也可用于等离子体处理的材料表面改性。
磁过滤阴极弧复合溅射镀膜仪
型  号:P600-1
生产商:NIMTE&JNL 合作研制

负责人:柯培玲
电   话:0574-86685036

主要参数:
► 等离子体源: Filtering vacuum arc, metal arc, HIPIMS sputtering, DC sputtering.
► 本底真空:<1.0×10-5Torr
► 沉积室尺寸:Φ600×600mm
► 基片台:6 axels with revolution and rotation (Speed :0~10rpm)
► 偏压:DC bipolar pulse( ~350KHZ, ~600V), RF (13.56MHz, 2.5KW)

用途:
可在多种不同衬底上,低温、大面积制备纳米结构超高性能的光滑ta-C, CrN, TiN, TiAlN 等硬质涂层和功能涂层(金属、化合物等)。
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