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 电感耦合PECVD复合沉积系统 |
型 号：CARBOZEN LAB
负责人：陈仁德
电 话：0574-86685036
主要参数：
► 模式: PECVD/PVD/ALD
► 极限真空：<5.0×10-5Pa
► 沉积室尺寸：Φ500×300mm
► 基片台：1 axels with revolution and rotation (Speed :0～30rpm)
► 加热温度：室温~400℃
► 偏压：DC bipolar pulse
用途：
可在所需多种基材上实现材料表面改性。基材种类涉及：金属、合金、塑料、陶瓷等。
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| 高离化率磁控溅射复合受控阴极电弧镀膜装置 |
型 号：研制
负责人：陈仁德
电 话：0574-86685036
主要参数：
► 等离子体源: linear ion beam, metal arc, HIPIMS sputtering
► 本底真空：<5.0×10-6Torr
► 沉积室尺寸：Φ700×650mm
► 基片台：6 axels with revolution and rotation (Speed :1～9.5rpm)
► 偏压：DC bipolar pulse( ~100KHZ, ~1200V)
用途：
可在所需多种基材上沉积超高性能的光滑 CrN, TiN, TiAlN 等功能性涂层（超硬、防腐、耐磨、耐高温氧化、自润滑等）与装饰涂层（黑色、红色、蓝色等）。基材种类涉及：金属、合金、塑料、陶瓷等。也可用于等离子体处理的材料表面改性。
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| 磁过滤阴极弧复合溅射镀膜仪 |
型 号：研制
负责人：陈仁德
电 话：0574-86685036
主要参数：
► 等离子体源: Filtering vacuum arc, metal arc, HIPIMS sputtering, DC sputtering.
► 本底真空：<1.0×10-5Torr
► 沉积室尺寸：Φ600×600mm
► 基片台：6 axels with revolution and rotation (Speed :0～10rpm)
► 偏压：DC bipolar pulse( ~350KHZ, ~600V), RF (13.56MHz, 2.5KW)
用途：
可在多种不同衬底上，低温、大面积制备纳米结构超高性能的光滑ta-C, CrN, TiN, TiAlN 等硬质涂层和功能涂层（金属、化合物等）。
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