型  号：研制


负责人：陈仁德
电  话：0574-86685036

主要参数：
► 等离子体源: linear ion beam, metal arc, HIPIMS sputtering
► 本底真空：<5.0×10-6Torr
► 沉积室尺寸：Φ700×650mm
► 基片台：6 axels with revolution and rotation (Speed :1～9.5rpm)
► 偏压：DC bipolar pulse( ~100KHZ, ~1200V)

用途：
可在所需多种基材上沉积超高性能的光滑 CrN, TiN, TiAlN 等功能性涂层（超硬、防腐、耐磨、耐高温氧化、自润滑等）与装饰涂层（黑色、红色、蓝色等）。基材种类涉及：金属、合金、塑料、陶瓷等。也可用于等离子体处理的材料表面改性。