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复合离子束薄膜沉积设备
型  号:P600
生产商:J&L Tech co., Korea

负责人:孙丽丽
电    话:0574-86685036

主要参数:
► 离子源:linear and end-hall ion beam, magnetron sputtering, PECVD
► 本底真空:<1.0×10-5Torr
► 沉积室尺寸:Φ600×600mm
► 偏压:DC bipolar pulse( ~350KHZ, ~600V),RF (13.56MHz, 2.5KW),

用途:
可在所需多种基材上沉积功能性涂层(超硬、防腐、耐磨、耐高温氧化、自润滑等)与装饰涂层(黑色、红色、蓝色等)。基材种类涉及:金属、合金、塑料、陶瓷、纤维等。也可用于等离子体处理的材料表面改性。
PECVD-400型等离子增强化学气相沉积系统
型 号:PECVD-400
生产商:中科院沈阳科学仪器有限公司

负责人:陈仁德
电 话:0574-86685036

主要参数:
► 模式: PECVD/PVD
► 极限真空:<5.0×10-5Pa
► 沉积室尺寸:Φ350×300mm
► 基片台:1 axels with revolution and rotation (Speed :5~30rpm)
► 加热温度:室温~800℃
► 偏压:DC bipolar pulse( ~200V)

用途:
可在所需多种基材上实现材料表面改性。基材种类涉及:金属、合金、塑料、陶瓷等。
朗格缪尔探针系统
型  号:LP-500
生产商:Impedans Ltd, 爱尔兰

负责人:陈仁德
电  话:0574-86685036

主要参数:
► 悬浮电位(Vf):-145V to 145V
► 等离子体电位(Vp):-100V to 145V
► 等离子体密度(Ne):108 to 3x1012 cm-3 
► 离子电流密度 (Ni):1uA/cm2 -30mA/cm2 
► 电子温度(kTe):0.1 to 15eV
► 电子能量分布函数 (EEDF):0-100eV
► 电压扫描范围:-150V to +150V
► 电流扫描范围:15nA to 150mA 
► 采样速率:80 MSPS (V,I)
► 获取数据分辨率:4.5mV,100pA

用途:
朗格缪尔探针系统主要用于等离子体辉光放电诊断。
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