型 号：PECVD-400


负责人：陈仁德
电 话：0574-86685036

主要参数：
► 模式: PECVD/PVD
► 极限真空：<5.0×10-5Pa
► 沉积室尺寸：Φ350×300mm
► 基片台：1 axels with revolution and rotation (Speed :5～30rpm)
► 加热温度：室温~800℃
► 偏压：DC bipolar pulse( ~200V)

用途：
可在所需多种基材上实现材料表面改性。基材种类涉及：金属、合金、塑料、陶瓷等。