型  号：P600


负责人：陈仁德
电    话：0574-86685036

主要参数：
► 离子源:linear and end-hall ion beam, magnetron sputtering, PECVD
► 本底真空：<1.0×10-5Torr
► 沉积室尺寸：Φ600×600mm
► 偏压：DC bipolar pulse( ~350KHZ, ~600V),RF (13.56MHz, 2.5KW),

用途：
可在所需多种基材上沉积功能性涂层（超硬、防腐、耐磨、耐高温氧化、自润滑等）与装饰涂层（黑色、红色、蓝色等）。基材种类涉及：金属、合金、塑料、陶瓷、纤维等。也可用于等离子体处理的材料表面改性。