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团队参加第14届PBII&D 国际会议
日期:2017-10-24, 查看:1184

2017年10月17-20日,第十四届等离子体离子注入&沉积国际会议在上海召开。此次会议由中国科学院上海硅酸盐研究所主办,大会开幕式由会议主席刘宣勇研究员主持。来自澳大利亚、德国、阿根廷、法国、美国、中国等多个国家的200余位专家学者参加了此次研讨会。

团队成员汪爱英研究员、博士研究生魏菁、硕士研究生王丽,一行三人参加了此次会议。其中,汪爱英研究员做了题为“Superhard CrB2 coating with preferred (001) orientation by traditional DC magnetron sputtering”的口头报告。魏菁和王丽分别作了题为“Combined structural evolution of tetrahedral amorphous carbon films via thickness”和“Substrate biases effect on the structure, optical and electrical properties of a-C films by HiPIMS”的展板报告。主要介绍了团在CrB2超硬涂层、四面体非晶碳薄膜、及非晶碳膜光电性能方面的最新进展,报告收到参会者的浓厚兴趣。其中,王丽的展板报告获得了本次大会的“Best Poster Award”奖。

PBII&D是“等离子体基离子注入及沉积”表面工程领域顶尖国际会议之一,倍受国内外等离子体表面改性领域学者和专家的重视。此次会议分为等离子体离子注入与沉积、IBAD,真空电弧混合沉积、离子注入系统,高功率脉冲沉积、等离子体诊断/模拟、等离子体/离子-表面相互作用、及生物应用等八个相关主题领域,包括50多场口头报告和100多个展板报告。本次大会上,来自全世界的专家们对等离子体注入技术和薄膜研究等热点问题进行了深入讨论,并为互相合作交流提供平台。

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