2017年10月17-20日，第十四届等离子体离子注入&沉积国际会议将在上海硅酸盐研究所召开。会议主席为刘宣勇研究员。会议主题包括:

• Plasma Based Ion Implantation and Deposition
• IBAD; Vacuum Arc & Hybrid Processes
• Pulsed Power Deposition (HIPIMS)
• Plasma/Ion Sources; Pulsed Power and PBII Systems
• Plasma Diagnotics/Modeling
• Plasma/Ion-Surface Interaction
• Functional Materials and Interfaces (Biomaterials, DLC, Nanostructures, Semiconductors, etc.)
• Industrial Applications, Scaling Issues

会议详细内容请参见： http://pbiid2017.csp.escience.cn/dct/page/65583