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复合离子束薄膜沉积设备 |
型 号:P600
负责人:陈仁德 电 话:0574-86685036
主要参数: ► 离子源:linear and end-hall ion beam, magnetron sputtering, PECVD ► 本底真空:<1.0×10-5Torr ► 沉积室尺寸:Φ600×600mm ► 偏压:DC bipolar pulse( ~350KHZ, ~600V),RF (13.56MHz, 2.5KW),
用途: 可在所需多种基材上沉积功能性涂层(超硬、防腐、耐磨、耐高温氧化、自润滑等)与装饰涂层(黑色、红色、蓝色等)。基材种类涉及:金属、合金、塑料、陶瓷、纤维等。也可用于等离子体处理的材料表面改性。
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PECVD-400型等离子增强化学气相沉积系统 |
型 号:PECVD-400
负责人:陈仁德 电 话:0574-86685036
主要参数: ► 模式: PECVD/PVD ► 极限真空:<5.0×10-5Pa ► 沉积室尺寸:Φ350×300mm ► 基片台:1 axels with revolution and rotation (Speed :5~30rpm) ► 加热温度:室温~800℃ ► 偏压:DC bipolar pulse( ~200V)
用途: 可在所需多种基材上实现材料表面改性。基材种类涉及:金属、合金、塑料、陶瓷等。
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朗格缪尔探针系统 |
型 号:LP-500 生产商:Impedans Ltd, 爱尔兰
负责人:陈仁德 电 话:0574-86685036
主要参数: ► 悬浮电位(Vf):-145V to 145V ► 等离子体电位(Vp):-100V to 145V ► 等离子体密度(Ne):108 to 3x1012 cm-3 ► 离子电流密度 (Ni):1uA/cm2 -30mA/cm2 ► 电子温度(kTe):0.1 to 15eV ► 电子能量分布函数 (EEDF):0-100eV ► 电压扫描范围:-150V to +150V ► 电流扫描范围:15nA to 150mA ► 采样速率:80 MSPS (V,I) ► 获取数据分辨率:4.5mV,100pA
用途: 朗格缪尔探针系统主要用于等离子体辉光放电诊断。
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